脱膜处理，一般按照要求的配比进行脱膜，启动脱膜工艺前要确认工艺参数是否符合要求，避免对基体材质造成损伤，前处理，其中关键的质量控制点是二人确认程序质量管理制度，基体材料的质量和洁净度很大程度上决定了涂层的质量，判定涂层好坏的标准有其表面的粗糙度，其表面的粗糙度很大程度上取决于所处理基体材料表面的粗糙度，因为对于薄膜材料它的组织结构为仿型组织结构，此道工序的主要任务是对涂层前的工件表面进行清洗，剔除表面的异物包括油污、重度粒子等。
硬度条件，为使PVD处理得到稳定的效果，精冲模具基体材料的硬度应不低于HRC48，否则在使用时会造成压塌现象，基体发生塑性变形，进而引起涂层剥落，温度条件，涂层终末处理温度不得低于360℃，一旦低于此温度，沉积层性能就恶化，故不能用于低温回火材料，凡是在热处理后进行表面处理，其处理温度低于基体的回火温度，如碳素模具钢、低合金模具钢在低温回火态使用，不宜采用PVD法处理，因为处理温度高于回火温度，将导致基体材料软化。
大颗粒密度由无挡板时的2，3x105/mm2降低至1，4x103/mm2，至大颗粒尺寸在2μm以下，而挡板影响区域之外的位置颗粒密度变化不大，但安装挡板后，除沉积速率下降外，PVD涂层的性能也受影响，空心阴极技术，在电弧离子镀沉积PVD涂层时，引入空心阴极发射的电子束，使制备的涂层大颗粒尺寸减小，但此方法要在常规离子镀设备中加装空心阴极装置，利用弯曲弧磁过滤器将大颗粒与等离子体分离，将等离子体引入沉积室的方法，取得了较好的效果，但该方法的沉积速率比普通电弧离子镀降低很多。
