脱膜处理，一般按照要求的配比进行脱膜，启动脱膜工艺前要确认工艺参数是否符合要求，避免对基体材质造成损伤，前处理，其中关键的质量控制点是二人确认程序质量管理制度，基体材料的质量和洁净度很大程度上决定了涂层的质量，判定涂层好坏的标准有其表面的粗糙度，其表面的粗糙度很大程度上取决于所处理基体材料表面的粗糙度，因为对于薄膜材料它的组织结构为仿型组织结构，此道工序的主要任务是对涂层前的工件表面进行清洗，剔除表面的异物包括油污、重度粒子等。
沉积温度在200℃左右形成的涂层，相当脆弱，结合力很差而不耐用，为了形成牢固的PVD涂层，必须使沉积温度在360℃以上，PVD涂层工艺在各个技术领域得到广泛应用，其应用涉及范围从相对简单的材料表面处理，一直到高技术领域，PVD涂层的工艺特点是通过热能或通过粒子轰击来实现金属、合金或化合物高真空环境下的沉积过程，由于一般PVD涂层基体均为高速钢或硬质合金，尤其硬质合金的涂层过程控制要求尤为严格，所以其过程的控制提出了严格要求。
大颗粒密度由无挡板时的2，3x105/mm2降低至1，4x103/mm2，至大颗粒尺寸在2μm以下，而挡板影响区域之外的位置颗粒密度变化不大，但安装挡板后，除沉积速率下降外，PVD涂层的性能也受影响，空心阴极技术，在电弧离子镀沉积PVD涂层时，引入空心阴极发射的电子束，使制备的涂层大颗粒尺寸减小，但此方法要在常规离子镀设备中加装空心阴极装置，利用弯曲弧磁过滤器将大颗粒与等离子体分离，将等离子体引入沉积室的方法，取得了较好的效果，但该方法的沉积速率比普通电弧离子镀降低很多。
