涂层的目标是获得光滑的表面以生产良好的界面，清洗，运行涂层工艺，PVD涂层工艺包括抽真空-加热-蚀刻-涂层-冷却，其中采用程序软件进行自动控制，要求对基体材料的温度、阴阳极电压参数的变化情况、真空度的变化情况等进行程序软件自动化记录以便于后续的追溯，PVD涂层质量优劣从有关基体温度、气压、沉积速率等参数的变化可以看出一些迹象，根据涂层产品应用环境可以选择进行后处理，以改善表面的光洁度，也可以对产品进行退磁处理，以防止加工铁屑的粘附倾向。
沉积温度在200℃左右形成的涂层，相当脆弱，结合力很差而不耐用，为了形成牢固的PVD涂层，必须使沉积温度在360℃以上，PVD涂层工艺在各个技术领域得到广泛应用，其应用涉及范围从相对简单的材料表面处理，一直到高技术领域，PVD涂层的工艺特点是通过热能或通过粒子轰击来实现金属、合金或化合物高真空环境下的沉积过程，由于一般PVD涂层基体均为高速钢或硬质合金，尤其硬质合金的涂层过程控制要求尤为严格，所以其过程的控制提出了严格要求。
硬度条件，为使PVD处理得到稳定的效果，精冲模具基体材料的硬度应不低于HRC48，否则在使用时会造成压塌现象，基体发生塑性变形，进而引起涂层剥落，温度条件，涂层终末处理温度不得低于360℃，一旦低于此温度，沉积层性能就恶化，故不能用于低温回火材料，凡是在热处理后进行表面处理，其处理温度低于基体的回火温度，如碳素模具钢、低合金模具钢在低温回火态使用，不宜采用PVD法处理，因为处理温度高于回火温度，将导致基体材料软化。