脱膜处理,一般按照要求的配比进行脱膜,启动脱膜工艺前要确认工艺参数是否符合要求,避免对基体材质造成损伤,前处理,其中关键的质量控制点是二人确认程序质量管理制度,基体材料的质量和洁净度很大程度上决定了涂层的质量,判定涂层好坏的标准有其表面的粗糙度,其表面的粗糙度很大程度上取决于所处理基体材料表面的粗糙度,因为对于薄膜材料它的组织结构为仿型组织结构,此道工序的主要任务是对涂层前的工件表面进行清洗,剔除表面的异物包括油污、重度粒子等。
硬度条件,为使PVD处理得到稳定的效果,精冲模具基体材料的硬度应不低于HRC48,否则在使用时会造成压塌现象,基体发生塑性变形,进而引起涂层剥落,温度条件,涂层终末处理温度不得低于360℃,一旦低于此温度,沉积层性能就恶化,故不能用于低温回火材料,凡是在热处理后进行表面处理,其处理温度低于基体的回火温度,如碳素模具钢、低合金模具钢在低温回火态使用,不宜采用PVD法处理,因为处理温度高于回火温度,将导致基体材料软化。
大颗粒密度由无挡板时的2,3x105/mm2降低至1,4x103/mm2,至大颗粒尺寸在2μm以下,而挡板影响区域之外的位置颗粒密度变化不大,但安装挡板后,除沉积速率下降外,PVD涂层的性能也受影响,空心阴极技术,在电弧离子镀沉积PVD涂层时,引入空心阴极发射的电子束,使制备的涂层大颗粒尺寸减小,但此方法要在常规离子镀设备中加装空心阴极装置,利用弯曲弧磁过滤器将大颗粒与等离子体分离,将等离子体引入沉积室的方法,取得了较好的效果,但该方法的沉积速率比普通电弧离子镀降低很多。