涂层的目标是获得光滑的表面以生产良好的界面,清洗,运行涂层工艺,PVD涂层工艺包括抽真空-加热-蚀刻-涂层-冷却,其中采用程序软件进行自动控制,要求对基体材料的温度、阴阳极电压参数的变化情况、真空度的变化情况等进行程序软件自动化记录以便于后续的追溯,PVD涂层质量优劣从有关基体温度、气压、沉积速率等参数的变化可以看出一些迹象,根据涂层产品应用环境可以选择进行后处理,以改善表面的光洁度,也可以对产品进行退磁处理,以防止加工铁屑的粘附倾向。
脱膜处理,一般按照要求的配比进行脱膜,启动脱膜工艺前要确认工艺参数是否符合要求,避免对基体材质造成损伤,前处理,其中关键的质量控制点是二人确认程序质量管理制度,基体材料的质量和洁净度很大程度上决定了涂层的质量,判定涂层好坏的标准有其表面的粗糙度,其表面的粗糙度很大程度上取决于所处理基体材料表面的粗糙度,因为对于薄膜材料它的组织结构为仿型组织结构,此道工序的主要任务是对涂层前的工件表面进行清洗,剔除表面的异物包括油污、重度粒子等。
大颗粒密度由无挡板时的2,3x105/mm2降低至1,4x103/mm2,至大颗粒尺寸在2μm以下,而挡板影响区域之外的位置颗粒密度变化不大,但安装挡板后,除沉积速率下降外,PVD涂层的性能也受影响,空心阴极技术,在电弧离子镀沉积PVD涂层时,引入空心阴极发射的电子束,使制备的涂层大颗粒尺寸减小,但此方法要在常规离子镀设备中加装空心阴极装置,利用弯曲弧磁过滤器将大颗粒与等离子体分离,将等离子体引入沉积室的方法,取得了较好的效果,但该方法的沉积速率比普通电弧离子镀降低很多。