DLC类金刚石涂层是一种亚稳态的非晶碳莫，兼具金刚石和石墨的特性，具有较好的硬度、良好的热传导性、低摩擦系数、优异的电绝缘性能、高化学稳定性等应用优点，在机械制造、生物医学、电子设备等领域有着广泛应用。DLC涂层主要采用物理气相沉积法、化学气相沉积法来制备，通过专门的沉积设备进行生产制作。下面，小编为大家简单介绍一下简阳DLC涂层沉积设备组成系统：
一、加热与水冷系统
加热系统与水冷系统均匀分布于沉积室四周，加热温度、速度及水量可控可调，并安装有相应的报警装置；旋转系统位于沉积室底部，通过绝缘陶瓷进行绝缘，旋转速度可控可调。
二、真空系统
真空系统由机械泵、罗茨泵、扩散泵及相应的控制阀门、测量元件组成，可以根据工艺需要自由地进行高真空和低真空的切换。
三、供气系统
供气系统置于沉积室顶部，气体种类包括H2、N2、Ar、CHa、C2H2、含Si气体，同时沉积室顶部预留两路接口，方便以后其他种类气体的添加。
含Si的过渡层是公认的PCVD方法中有利于增强DLC涂层与基体结合力的一种涂层，为了获得Si，通常采用SiH4作为原料气，但是SiH4危险性较高，所以在此采用了危险性较低的含Si气体作为Si源。
四、沉积靶材系统
设备具有PVD和PCVD两个沉积单元，PCVD单元主要目的是用于类金刚石(DLC)的沉积，采用的电源为脉冲调制电源，各项参数连续可调，通过对参数的调整，可以沉积不同硬度和厚度的DLC涂层，同时，通过对工件装卡方式的调整，还可以在复杂工件上进行涂层；PVD单元的目的主要有：①针对不同的基体通过更换不同的靶材可以开发不同的粘结层或含有不同种类元素的金属掺杂DLC涂层；②通过更换靶材，可以形成多种“功能层+DLC”的用于不同领域的复合涂层。
五、电气控制系统
电气控制系统采用PLC全自动控制，包括上位机、PLC可编程控制器、适配转换器、控制电源、真空控制电源及测量系统、送气控制电源、温控系统、冷却水检测控制电源等。开炉前，在工艺编辑界面编辑涂层工艺并存档，在开炉时调用所需工艺，设备将自动运行，并实时进行检测监控。若有问题设备将自动报警，根据警报等级设备选择“等待”状态或直接停机，待警报解除后继续运行。每炉的运行记录及报警记录都自动存储于电脑中方便查阅。根据需要，设备可改为全手动运行，涂层过程中在主操作界面调整各项涂层参数进行控制。
以上就是简阳DLC涂层沉积设备组成系统的相关内容，我们在使用沉积设备时要注意采用正确方法操作，确保DLC涂层制备质量。